軟件截圖:
回歸Pro是可用於研究的實驗數據，從光譜橢偏儀或反射計未來科學/工業軟件。
回歸臨已開發主要用於測量薄膜的在半導體工業中的應用。
該軟件同時適用於確定層的厚度，並確定介電材料的光學特性
什麼在此版本中是新的：
- 在該版本修正了幾個錯誤，改善了一些小的可用性問題。這是回歸臨的所有用戶推薦的升級。
在什麼版本1.4.0是新的：
- 在這個版本引入了許多改進
- 最重要的是增加了一個互動配合會話，它允許用戶進行實驗與實驗光譜和模型。
- 在一個新的分散優化已實現交互式適應模型參考分散。
- 在圖形引擎被完全重寫了使用antigrain庫（AGG）。
- 在用戶手冊也被更新，以反映新的功能，並增加一些缺少的部分。
什麼是1.3.2版本，新的：
- 在支持已添加，以適應多譜在同時用共享和樣本特異性擬合參數。這種技術是非常重要的，以便為了通過檢查模型與多個獨立的樣品，以提供更穩健的結果。
- 網格搜索算法也得到了改善。
要求：
- 在GNU科學圖書館
- FOX
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